عام وضاحتیں زیادہ تر 1-10 ملی میٹر (کروی یا فاسد ذرات) ہیں، جس میں طہارت عام طور پر 99.9% (3N) سے 99.99% (4N) سے زیادہ یا اس کے برابر ہوتی ہے۔ بنیادی توجہ اعلی طہارت اور کم نجاست (کم آکسیجن، کم زرکونیم) پر ہے۔
بنیادی خصوصیات - کثافت: ≈13.31 g/cm³ (اعلی کثافت)؛ میلٹنگ پوائنٹ: 2233 ڈگری (ریفریکٹری میٹل)؛ ظاہری شکل: چاندی-سرمئی دھاتی چمک، ایک گھنے اور غیر فعال سطح کے ساتھ (HfO₂ فلم)؛ کلیدی خصوصیات: ہائی نیوٹران جذب کراس-سیکشن (تقریباً 104 ہدف en)، اعلی درجہ حرارت مزاحمت، سنکنرن مزاحمت، بخارات کا کم دباؤ؛ مین فارم اور پروسیسنگ - دانے دار: زیادہ تر ٹکڑوں/ملنگ سے بنائے جاتے ہیں، وسیع ذرہ سائز کی تقسیم کے ساتھ، تیزی سے کھانا کھلانے اور بڑے رابطہ علاقے کے ساتھ عمل کے لیے موزوں؛ چھرے: زیادہ تر دبانے/کاسٹنگ سے بنتے ہیں، یکساں سائز کے ساتھ (جیسے 3×3 ملی میٹر، 2×5 ملی میٹر)، عین مطابق فیڈنگ منظرناموں کے لیے موزوں ہے جیسے ویکیوم بخارات، PVD کوٹنگ؛ عام ایپلی کیشنز 1. نیوکلیئر انڈسٹری: ری ایکٹر کنٹرول راڈز، نیوٹران جذب کرنے والے، شیلڈنگ میٹریل، ری ایکشن کی شرح کو ریگولیٹ کرنے کے لیے ہائی نیوٹران جذب کراس- سیکشن پر انحصار کرنا؛ 2. الیکٹرانکس/سیمک کنڈکٹرز: PVD کوٹنگ کے لیے خام مال، اعلی درجے کی چپ گیٹ ڈائی الیکٹرکس، آپٹیکل اور پہننے والی{14}}مزاحم کوٹنگز کے لیے ہائی ڈائی الیکٹرک مستقل HfO₂ پتلی فلمیں تیار کرنے کے لیے استعمال کیا جاتا ہے۔ 3. ہائی ٹمپریچر/ایرو اسپیس: ہائی-درجہ حرارت کے مرکب کے لیے اضافی چیزیں (ٹنگسٹن/ٹینٹلم/مولیبڈینم الائے کی اعلی-درجہ حرارت کی مزاحمت اور اعلی درجہ حرارت کی طاقت کو بڑھانے کے لیے)، راکٹ نوزلز اور دیگر انتہائی-اعلی درجہ حرارت کے اجزاء؛ 4. کیمیکل اور میٹالرجیکل انڈسٹریز: حاصل کرنے والے (آکسیجن/نائٹروجن کی نجاست کو دور کرنے کے لیے)، سنکنرن-مزاحم کوٹنگز (جیسے ہیفنیم کاربائیڈ HfC)، اتپریرک پیشگی؛ پیکیجنگ اور اسٹوریج: آکسیکرن اور نمی جذب سے بچنے کے لیے ویکیوم سیل ہونا ضروری ہے۔ آپریشن کو ایک غیر فعال ماحول (آرگن) میں انجام دینے کی سفارش کی جاتی ہے؛ عمل کی موافقت: تیز خوراک اور بڑے ردعمل کے علاقے کے ساتھ منظرناموں کے لیے موزوں دانے دار۔ عین مطابق کھانا کھلانے کے لیے زیادہ موزوں گولیاں جیسے ویکیوم بخارات، پی وی ڈی وغیرہ
