نکل وینڈیم سپٹرنگ ٹارگٹ

نکل وینیڈیم سپٹرنگ ٹارگٹ کی تیاری کا عمل
میٹالوگرافک معائنہ، ویکیوم انڈکشن پگھلنا، کیمیائی تجزیہ، جعل سازی، رولنگ، اینیلنگ، مشینی، جہتی معائنہ، صفائی، حتمی معائنہ، اور پیکیجنگ مواد کی تیاری کے کچھ مراحل ہیں۔

خالص سونا عام طور پر انٹیگریٹڈ سرکٹس کی تیاری میں باہم مربوط دھات کے طور پر استعمال ہوتا ہے، اور اسے سلکان ویفر پر جمع کیا جاتا ہے۔ تاہم، سونا سلیکون ویفر میں پھیل جائے گا اور AuSi نامی ایک اعلی مزاحمتی کمپاؤنڈ بنائے گا، جو وائرنگ میں موجودہ کثافت کو نمایاں طور پر کم کرے گا اور پورے وائرنگ سسٹم کی ناکامی کا باعث بنے گا۔
لہذا، یہ تجویز کیا جاتا ہے کہ سلکان ویفرز اور سونے کی پتلی شیٹ کے درمیان ایک چپکنے والی تہہ ڈالی جائے۔ سونے کی کنڈکٹیو پرت اور نکل چپکنے والی پرت کے درمیان پھیلاؤ کو روکنے کے لیے ایک رکاوٹ پرت کی ضرورت ہوتی ہے کیونکہ چپکنے والی پرت عام طور پر خالص نکل پر مشتمل ہوتی ہے لیکن یہ نکل پرت اور سونے کی کنڈکٹیو پرت کے درمیان پھیلاؤ کا تجربہ بھی کرتی ہے۔

وینیڈیم کو اس کے اعلی پگھلنے کے نقطہ اور اعلی موجودہ کثافت کی وجہ سے رکاوٹ کی تہوں کو جمع کرنے کے لیے منتخب کیا جاتا ہے، لہذا نکل، وینیڈیم، اور سونے کے پھٹنے والے اہداف سبھی مربوط سرکٹس کی تیاری میں استعمال ہوتے ہیں۔
نکل اور وینیڈیم دونوں کے فوائد Nickel Vanadium Sputtering Target میں 7 فیصد وینیڈیم کے ساتھ مل کر ایک چپکنے والی تہہ اور ایک رکاوٹ کی تہہ کی بیک وقت تشکیل کی اجازت دیتے ہیں۔ NiV دھات کی غیر مقناطیسی نوعیت اسے میگنیٹران سپٹرنگ کے لیے مثالی بناتی ہے۔ یہ الیکٹرانکس انفارمیشن انڈسٹری میں تیزی سے خالص نکل پھٹنے والے اہداف کی جگہ لے رہا ہے۔

ہمارے بنائے ہوئے اعلی پاکیزگی والے نکل وینیڈیم سپٹرنگ ٹارگٹ کے سب سے اہم فوائد آپ کی فلموں کی غیر معمولی برقی چالکتا اور PVD عمل کے دوران ذرہ کی تشکیل میں کمی ہے۔

مزید برآں، ہم آپ کی مخصوص ساختی، جہتی، اور پارٹیکل سائز کی ضروریات کے مطابق، NiAl، NiCo، NiCu، NiCr، NiW، NiCrSi، اور NiCrAl سمیت مختلف نکل مرکبات سے بنائے گئے اہداف بنا سکتے ہیں۔
 

ڈاؤن لوڈ، اتارنا ٹیگ: نکل وینڈیم سپٹرنگ ہدف، سپلائرز، مینوفیکچررز، فیکٹری، اپنی مرضی کے مطابق، خرید، قیمت، کوٹیشن، معیار، فروخت کے لیے، اسٹاک میں