Molybdenum Niobium Sputtering ہدف

مربع، سرمئی، 99.95 فیصد Molybdenum Niobium Sputtering Target کا ایک خاکستری ہدف ہے۔ یہ پاؤڈر تکنیک کا استعمال کرتے ہوئے بنایا گیا ہے، اور اس میں عام طور پر 5-10 فیصد نیبیم ہوتا ہے۔ molybdenum-niobium alloy ٹارگٹ کو یکساں طور پر دو انتہائی خالص دھاتی پاؤڈر، niobium پاؤڈر اور molybdenum پاؤڈر کو ملا کر، پاؤڈر کو دبانے اور سنٹر کرنے، یکساں کثافت کے عمل کو انجام دینے، اور پھر سطح کو پیسنے اور پالش کرنے جیسی تکنیکوں کا استعمال کرتے ہوئے ہدف کو مشینی بنا کر بنایا جاتا ہے۔ . Molybdenum اور niobium بنیادی طور پر ٹچ اسکرین انڈسٹری میں ناقابل یقین حد تک سنکنرن مزاحم ITO پتلی فلم سینسر کی دھاتی وائرنگ کے لیے استعمال کیے جاتے ہیں۔

Molybdenum Niobium Sputtering Target Yusheng Metal کے ذریعے مختلف شکلوں میں تیار کیا جاتا ہے، بشمول ڈسک، مستطیل، کالم، قدم، اور حسب ضرورت شکل۔ سرکلر اہداف کا اکثر قطر 1، 2، یا 3 انچ، یا 50، 60، 80، یا 100 ملی میٹر وغیرہ ہوتا ہے۔ 0.125 اور 0.25 انچ، یا 3mm، 4mm، 5mm، اور بالترتیب 6mm، سب سے زیادہ مقبول موٹائی ہیں۔ اگر ضروری ہو تو، ایک تانبے کی پشت پناہی والی پلیٹ کو بونڈ سپٹرنگ اہداف کے لیے استعمال کیا جا سکتا ہے۔ اضافی مصنوعات کی تفصیلات پروڈکٹ کی تفصیلات کے سیکشن میں دیکھی جا سکتی ہیں۔

Molybdenum Niobium (Mo-Nb) الائے سپٹرنگ ٹارگٹس بھی مختلف طہارت کی سطحوں، اشکال اور سائز میں آرڈر کرنے کے لیے تیار کیے جا سکتے ہیں۔

Molybdenum Niobium (Mo-Nb) مرکب سے تیار کردہ پھٹنے والے اہداف میں 99.9 فیصد Mo-Nb ہوتا ہے۔

عام سائز کے پھٹنے والے اہداف:

molybdenum-niobium کھوٹ کی خصوصیات کو نشانہ بنانا
molybdenum-niobium alloy سے بنے اہداف کو فلیٹ پینل ڈسپلے میگنیٹران سپٹرنگ میں کثرت سے استعمال کیا جاتا رہا ہے۔ صنعتی استعمال کے لیے مولبڈینم کے اہداف کی سنکنرن مزاحمت (رنگین) اور چپکنے والی صلاحیت کو مزید بڑھانے کے لیے مولبڈینم مرکبات پر زیادہ سے زیادہ مطالعہ کیے گئے ہیں۔ (فلم چھیلنا)۔ مولبڈینم کو V, Nb, W, اور Ta کے ساتھ بڑھایا جا سکتا ہے تاکہ مصنوعات کی مخصوص مزاحمت، تناؤ کے خلاف مزاحمت، اور سنکنرن مزاحمت کو بڑھایا جا سکے۔

molybdenum-niobium alloy sputtering کے لیے ہدف کی تیاری
روایتی سنٹرنگ تکنیک کے مقابلے میں گرم آئسوسٹیٹک پریسنگ ٹکنالوجی کے ہمارے وسیع استعمال کی وجہ سے، تیار کردہ مولیبڈینم-نیوبیم پلانر ٹارگٹ کی کثافت 9.7g/cm3 سے زیادہ تک پہنچ سکتی ہے، اور اس کی یکسانیت، کثافت، پاکیزگی اور دیگر اشارے ظاہر ہوئے ہیں۔ قابل ذکر نتائج. فروغ دینا۔

یوشینگ میٹل سے بہترین معیار اور مناسب قیمت کا مولیبڈینم نیوبیم سپٹرنگ ٹارگٹ دستیاب ہے۔

ڈاؤن لوڈ، اتارنا ٹیگ: molybdenum niobium sputtering ہدف، سپلائرز، مینوفیکچررز، فیکٹری، اپنی مرضی کے مطابق، خرید، قیمت، کوٹیشن، معیار، برائے فروخت، اسٹاک میں