ٹنگسٹن ٹائٹینیم سپٹرنگ ٹارگٹس

ٹنگسٹن ٹائٹینیم سپٹرنگ اہداف:

ہمارے ٹنگسٹن ٹائٹینیم سپٹرنگ اہداف جدید پاؤڈر میٹالرجیکل مینوفیکچرنگ تکنیک کا استعمال کرتے ہوئے تیار کیے جاتے ہیں۔ ہم 400 ملی میٹر قطر تک سائز کی ایک رینج میں WTi سپٹرنگ اہداف پیش کرتے ہیں۔ ہم پہلے مینوفیکچررز میں شامل ہیں جنہوں نے WTi کو روٹری ٹارگٹ اور پلانر ٹارگٹ دونوں کے طور پر بنایا ہے۔ ہمارے WTi اہداف میں ٹائٹینیم کا مواد عام طور پر وزن کے لحاظ سے 10% ہوتا ہے۔

ٹنگسٹن ٹائٹینیم سپٹرنگ ٹارگٹس

ٹنگسٹن ٹائٹینیم مرکب

ٹنگسٹن ٹائٹینیم کے لیے درخواست کے علاقے:
Tungsten-titanium (WTi)، جس میں وزن کے لحاظ سے 10% ٹائٹینیم ہوتا ہے، مائیکروچپس میں میٹلائزیشن گلو اور ڈفیوژن بیریئر کے طور پر استعمال ہوتا ہے۔ اس صورت میں، WTi کو میٹالائزیشن اور سیمی کنڈکٹر تہوں کو الگ کرنے کے لیے استعمال کیا جاتا ہے، جیسے کہ سیلیکون سے تانبا یا سلکان سے ایلومینیم۔ پھیلاؤ کی رکاوٹوں کے بغیر، سلیکون اور کاپر مائیکرو چپس میں ایک انٹرمیٹالک فیز بنانے کے لیے اکٹھے ہوں گے، جو سیمی کنڈکٹر کی کارکردگی کو متاثر کرے گا۔ لچکدار پتلی فلم سولر سیلز (CIGS) میں WTi بیریئر پرت استعمال کی جاتی ہے تاکہ لوہے کے آئنوں کو molybdenum back contact کے ذریعے اور سیمی کنڈکٹر میں پھیلنے سے روکا جا سکے۔ CIGS شمسی خلیات کی کارکردگی میں لوہے کے چند g/g سے بہت کم کمی لائی جا سکتی ہے۔

a. پاؤڈر میٹالرجی کا استعمال ٹنگسٹن ٹائٹینیم سپٹرنگ ٹارگٹس بنانے کے لیے کیا جاتا ہے، جو بڑے پیمانے پر سیمی کنڈکٹر اور پتلی فلم سولر سیل مینوفیکچرنگ میں استعمال ہوتے ہیں۔

b.WTi10wt% پتلی فلم سیمی کنڈکٹر ایپلی کیشنز میں ایک چپکنے والی پرت اور پھیلاؤ کی رکاوٹ کے طور پر استعمال ہوتی ہے تاکہ سیمی کنڈکٹر سے میٹالائزیشن کی تہوں کو الگ کیا جاسکے، جیسے کہ سیلیکون سے تانبا یا ایلومینیم۔ نتیجے کے طور پر، مائیکرو چپس میں ٹرانجسٹر کے فنکشن کو بہت زیادہ بڑھایا جا سکتا ہے۔

c.WTi10wt% پتلی فلم کو پتلی فلم سولر سیلز میں ایک رکاوٹ پرت کے طور پر بھی استعمال کیا جاتا ہے تاکہ لوہے کے آئنوں کو اسٹیل سبسٹریٹ سے مولیبڈینم بیک کانٹیکٹ اور CIGS سیمی کنڈکٹر تک پھیلنے سے روکا جا سکے۔ ٹنگسٹن ٹائٹینیم سے بنے ٹارگٹس کو ٹولز اور ایل ای ڈی کو ڈھانپنے کے لیے بھی استعمال کیا جاتا ہے۔ .

دو اعداد و شمار میں، WTi تہوں کا استعمال کرتے ہوئے ایک فلپ چپ سیمی کنڈکٹر میٹالائزیشن کو بائیں جانب CIGS سولر سیل کی اسکیمیٹک تعمیر کے نیچے دکھایا گیا ہے۔

کوٹنگ مادہ کی پاکیزگی کے ساتھ پرت کا معیار بڑھتا ہے۔ مادی پاکیزگی کی سب سے بڑی سطح کو یقینی بنانے کے لیے، ہم صرف خالص ترین پاؤڈر استعمال کرتے ہیں اور اسے شروع سے ہی اپنی سہولیات میں ملاتے ہیں۔ پاؤڈر سے لے کر تیار شدہ پروڈکٹ تک، ہم ہر مرحلے کو قریب سے دیکھتے ہیں تاکہ یہ یقینی بنایا جا سکے کہ صرف یقینی طور پر گارنٹی شدہ کثافت، پاکیزگی، اور یکساں مائیکرو اسٹرکچر والے اہداف ہی ہماری سہولت کو چھوڑ دیتے ہیں۔

ہماری فیکٹری WTi 90/10wt%، WTi 85/15wt%، اور خصوصی کمپوزیشن ٹنگسٹن ٹائٹینیم سپٹرنگ ٹارگٹس کے ساتھ اہداف تیار کرنے کی صلاحیت رکھتی ہے جنہیں اپنی مرضی کے مطابق بنایا جا سکتا ہے۔ اصل اہداف کی کثافت> 99% ہے، اور عام اناج کا سائز 100um ہے۔ اختتامی صارفین 4N5 تک پاکیزگی اور خصوصی اینیلنگ ٹریٹمنٹ، یکساں اناج کے سائز، اور کم گیس کے مواد کے ساتھ PVD عمل کے دوران مسلسل کٹاؤ کی شرح اور اعلی پاکیزگی اور یکساں پتلی فلم کوٹنگ حاصل کر سکتے ہیں۔

اگر آپ کو کوئی ضروریات یا سوالات ہیں، تو براہ مہربانی بلا جھجھک ہم سے رابطہ کریں۔

 

 

ہم سے رابطہ کریں۔

سیلز مینیجر:

رابطہ: لی Fengwu

Email: kd@tantalumysjs.com

ٹیلی فون: 13379388917

فیکس: 0917-3139100

پوسٹ کوڈ: 721013

ویب:https://www.tantalumysjs.com/

شامل کریں: وینکوان گاؤں انڈسٹریل زون، گاوکسین ڈویلپمنٹ زون، باوجی سٹی، شانسی صوبہ، چین

ڈاؤن لوڈ، اتارنا ٹیگ: ٹنگسٹن ٹائٹینیم سپٹرنگ اہداف، سپلائرز، مینوفیکچررز، فیکٹری، اپنی مرضی کے مطابق، خرید، قیمت، کوٹیشن، معیار، فروخت کے لیے، اسٹاک میں